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This work was supported by Spanish Ministry of Science (through Project Nos. MAT2007-65965-C02-02 and MAT2008-06567-C02) including FEDER funding and the Aragon Regional Government. N. Marcano and S. Sangiao acknowledge financial support from Spanish CSIC (JAE-doc program) and Spanish MEC (FPU program).

Análisis de autorías institucional

Plaza MAutor o Coautor

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2 de agosto de 2017
Publicaciones
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Artículo
Sí

Weak-antilocalization signatures in the magnetotransport properties of individual electrodeposited Bi Nanowires

Publicado en:APPLIED PHYSICS LETTERS. 96 (8): Article number 082110- - 2010-03-12 96(8), DOI: 10.1063/1.3328101

Autores: Marcano, N.; Sangiao, S.; Plaza, M.; Perez, L.; Fernandez Pacheco, A.; Cordoba, R.; Sanchez, M. C.; Morellon, L.; Ibarra, M. R.; De Teresa, J. M.;

Afiliaciones

Resumen

We study the electrical resistivity of individual Bi nanowires of diameter 100 nm fabricated by electrodeposition using a four-probe method in the temperature range 5-300 K with magnetic fields up to 90 kOe. Low-resistance Ohmic contacts to individual Bi nanowires are achieved using a focused ion beam to deposit W-based nanocontacts. Magnetoresistance measurements show evidence for weak antilocalization at temperatures below 10 K, with a phase-breaking length of 100 nm.

Palabras clave

ArraysBismuthBismuth nanowiresElectrical resistivityElectrodepositionFilmsGalvanomagnetic effectsLocalizationMetalNanofabricationNanowiresOhmic contactsTransport-properties

Indicios de calidad

Impacto bibliométrico. Análisis de la aportación y canal de difusión

El trabajo ha sido publicado en la revista APPLIED PHYSICS LETTERS debido a la progresión y el buen impacto que ha alcanzado en los últimos años, según la agencia WoS (JCR), se ha convertido en una referencia en su campo. En el año de publicación del trabajo, 2010, se encontraba en la posición 15/118, consiguiendo con ello situarse como revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoría Physics, Applied.

Desde una perspectiva relativa, y atendiendo al indicador del impacto normalizado calculado a partir del Field Citation Ratio (FCR) de la fuente Dimensions, arroja un valor de: 3, lo que indica que, de manera comparada con trabajos en la misma disciplina y en el mismo año de publicación, lo ubica como trabajo citado por encima de la media. (fuente consultada: Dimensions Aug 2025)

De manera concreta y atendiendo a las diferentes agencias de indexación, el trabajo ha acumulado, hasta la fecha 2025-08-03, el siguiente número de citas:

  • WoS: 27
  • Scopus: 27

Impacto y visibilidad social

Desde la dimensión de Influencia o adopción social, y tomando como base las métricas asociadas a las menciones e interacciones proporcionadas por agencias especializadas en el cálculo de las denominadas “Métricas Alternativas o Sociales”, podemos destacar a fecha 2025-08-03:

  • La utilización de esta aportación en marcadores, bifurcaciones de código, añadidos a listas de favoritos para una lectura recurrente, así como visualizaciones generales, indica que alguien está usando la publicación como base de su trabajo actual. Esto puede ser un indicador destacado de futuras citas más formales y académicas. Tal afirmación es avalada por el resultado del indicador “Capture” que arroja un total de: 36 (PlumX).

Es fundamental presentar evidencias que respalden la plena alineación con los principios y directrices institucionales en torno a la Ciencia Abierta y la Conservación y Difusión del Patrimonio Intelectual. Un claro ejemplo de ello es:

  • El trabajo se ha enviado a una revista cuya política editorial permite la publicación en abierto Open Access.

Análisis de liderazgo de los autores institucionales

Existe un liderazgo significativo ya que algunos de los autores pertenecientes a la institución aparecen como primer o último firmante, se puede apreciar en el detalle: Último Autor (PLAZA DOMINGUEZ, MANUEL).