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Análisis de autorías institucional

Zambudio, AitorAutor o CoautorLopez-Polin, GuillermoAutor o CoautorAres, PabloAutor o CoautorGomez-Herrero, JulioAutor o CoautorGomez-Navarro, CristinaAutor (correspondencia)
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Artículo

High frictional resilience of MoS2 nanosheets to induced atomic vacancies: implications for nanoelectromechanical devices

Publicado en:ACS APPLIED NANO MATERIALS. 7 (8): 9712-9719 - 2024-04-15 7(8), DOI: 10.1021/acsanm.4c01561

Autores: Zambudio, A.; López-Polín, G.; Ares, P.; Colchero, J.; Gómez-Herrero, J.; Gómez-Navarro, C.

Afiliaciones

Univ Autonoma Madrid, Condensed Matter Phys Dept, Madrid 28049, Spain - Autor o Coautor
Univ Autonoma Madrid, Dept Fis Mat, Canto Blanco 28049, Spain - Autor o Coautor
Univ Autonoma Madrid, IFIMAC Condensed Matter Phys Ctr, Canto Blanco 28049, Spain - Autor o Coautor
Univ Murcia, Opt & Nanophys Res Ctr, Murcia 30100, Spain - Autor o Coautor

Resumen

Molybdenum disulfide (MoS2) exhibits exceptional mechanical and wear properties combined with thermal stability, which makes it an outstanding solid lubricant. While numerous studies have reported on the tribological behavior of few-layer pristine MoS2, little attention has been given to the impact of defects, such as sulfur vacancies, which are inevitable during large-scale fabrications. Understanding the factors that affect friction at the atomic level is essential for the design and optimization of high-performance materials. Here, we present a systematic study of the tribology of one- and two-layer MoS2 nanosheets, with controllably introduced atomic vacancies, performed by atomic force microscopy. We find that the friction coefficient of mono- and bilayer MoS2 suffers more than a 3-fold increase from the as-prepared layer (with an initial defect density of 1 x 10(12) cm(-2)) to those with an induced atomic defect density of 1.2 x 10(13) cm(-2). Comparison of the results reported here with analogous results in graphene shows that MoS2 presents an attractive high resilience of the friction coefficient to monatomic defect generation in the atomic defect density range typically obtained by scalable techniques.

Palabras clave
2d materialsContacDefectsFrictionLateral force microscopyMos 2Mos2PhotoluminescenceTransistorsTribologTribologyVacancy

Indicios de calidad

Impacto bibliométrico. Análisis de la aportación y canal de difusión

El trabajo ha sido publicado en la revista ACS APPLIED NANO MATERIALS debido a la progresión y el buen impacto que ha alcanzado en los últimos años, según la agencia Scopus (SJR), se ha convertido en una referencia en su campo. En el año de publicación del trabajo, 2024 aún no existen indicios calculados, pero en 2023, se encontraba en la posición , consiguiendo con ello situarse como revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoría Materials Science (Miscellaneous).

Impacto y visibilidad social

Desde la dimensión de Influencia o adopción social, y tomando como base las métricas asociadas a las menciones e interacciones proporcionadas por agencias especializadas en el cálculo de las denominadas “Métricas Alternativas o Sociales”, podemos destacar a fecha 2025-05-08:

  • El uso, desde el ámbito académico evidenciado por el indicador de la agencia Altmetric referido como agregaciones realizadas por el gestor bibliográfico personal Mendeley, nos da un total de: 8.
  • La utilización de esta aportación en marcadores, bifurcaciones de código, añadidos a listas de favoritos para una lectura recurrente, así como visualizaciones generales, indica que alguien está usando la publicación como base de su trabajo actual. Esto puede ser un indicador destacado de futuras citas más formales y académicas. Tal afirmación es avalada por el resultado del indicador “Capture” que arroja un total de: 8 (PlumX).

Con una intencionalidad más de divulgación y orientada a audiencias más generales podemos observar otras puntuaciones más globales como:

  • El Score total de Altmetric: 4.55.
  • El número de menciones en la red social X (antes Twitter): 7 (Altmetric).

Es fundamental presentar evidencias que respalden la plena alineación con los principios y directrices institucionales en torno a la Ciencia Abierta y la Conservación y Difusión del Patrimonio Intelectual. Un claro ejemplo de ello es:

  • El trabajo se ha enviado a una revista cuya política editorial permite la publicación en abierto Open Access.
Análisis de liderazgo de los autores institucionales

Existe un liderazgo significativo ya que algunos de los autores pertenecientes a la institución aparecen como primer o último firmante, se puede apreciar en el detalle: Primer Autor (ZAMBUDIO SEPULVEDA, AITOR) y Último Autor (GOMEZ-NAVARRO GONZALEZ, CRISTINA).

el autor responsable de establecer las labores de correspondencia ha sido GOMEZ-NAVARRO GONZALEZ, CRISTINA.